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光学光刻平台配套,芯片检测台,12吋检测台,高精度位移台

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所在地: 天津
有效期至: 长期有效
最后更新: 2019-06-20 06:22
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公司基本资料信息
详细说明
 提供高精度光学光刻旋转平台,即气浮转台,一般采用公司标准系列气浮转台,详见本网站气浮转台页面,或以此为基础改制。光学行业已经应用的场合有:偏测仪、定心车、大镜面研抛加工(机器人配合)、大镜面扫描测量;芯片半导体行业应用有:芯片测量、硅片抛光、硅片减薄、光刻、LDI光刻、手机生产链检测。
提供高精度光学光刻气浮位移平台:一般采用定制形式,光学行业已经应用的场合有:偏测仪Z轴台、定心车、CCD拼接仪、大镜面研抛加工、大镜面测量;芯片半导体行业应用有:芯片制程中的测量和检测、LED制程中的检测、光刻、LDI光刻、手机生产链检测。
气浮位移平台产品现状:目前有几种基本形式。一种是采用气足组合的,类似三坐标测量机位移平台结构。优点是成本低、搭建相对容易;缺点是刚度低只适合低速低频、结构复杂零件多、调整部件太多不稳定、精度相对较低。另一种是以美国areotech为代表的半导体行业专用气浮位移平台,优点是采用一体化的设计,精度高、可高速高频;缺点是对环境要求太高,尤其是对温度环境要求太高;其实对环境的过分要求,也会影响实际可以达到的精度,这类平台的精度指标都指的是在几乎理想环境下的指标。
天津中精微/北京航星联合的气浮位移平台,克服了目前各种结构形式的缺点,是目前国内国外高精度气浮位移平台首选:
1,在设计上消除了热膨胀系数的影响,温度适用性非常强
2,产品采用整体设计,精度高没有调整环节。
3,充分发掘潜力,最大程度提高气膜面积,承载往往超出数倍,刚度极好。适合高速高频运动。
提供高精度光学光刻气浮位移平台快速定制服务
以下高精度光学光刻气浮位移平台可以直接采用
 
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